این ماده برای پاک کردن فتورزیست از روی ویفر استفاده می شود. در بعضی از آزمایشگاهها در حال حاضر از استون برای این منظور استفاده می شود. استون قابلیت حل کردن تمام قسمتهای فتورزیست را ندارد و باعث باقی ماندن قسمتی از آن می شود. به همین دلیل نیاز به شستشوی زیاد ویفر پس از آن وجود دارد. این مسئله تکرار پذیری فرایند را کاهش می دهد، کیفیت لایه نشانی های بعدی را ضعیف می کند و مشکلاتی (SU8, KMPR, 1813,…) مانند پوسته شدن بوجود می آورد. این ماده هردو نوع فتورزیست مثبت و منفی
را میتواند پاک کند. از این ماده برای حل کردن چسبهای قوی صنعتی نیز می توان استفاده کرد.
